ITO玻璃技術之SiO2阻擋膜層規格

      ITO玻璃技術之SiO2阻擋膜層規格
　　
　　SiO2阻擋膜層規格
　　
　　1、應用于液晶顯示器的鈉鈣（Na-Ca）玻璃，通常在其與液晶材料相接觸的一面需要鍍制一個膜層以阻擋來自玻璃中的鈉離子（Na+）向液晶層中遷移。
　　
　　1.1、鍍膜面為錫面。
　　
　　1.2、SiO2膜層厚度為20.0—30.0納米(nm)。
　　
　　1.3、成份為100%的SiO2。
　　
　　1.4、阻擋層性能:經過48小時、96℃以上溫度的水浴，阻擋膜層允許的單位面積內的鈉離子滲透量不超過1.0mg/m2。
　　
　　1.5、有效鍍膜面為除去邊緣3mm區域的玻璃面。在距邊緣3mm內有四個裝架卡具處無鍍膜層，其余邊緣部分均有膜層。
　　
　　1.6、光學性能規格
　　
　　1.6.1、在光波長為632.8nm處，折射率為1.57±0.10。
　　
　　1.6.2、在波長為550.0nm時，其透過率(包括厚度小于或等于1.1mm的基片玻璃)大于91%。
　　
　　1.7、耐化學性能要求
　　
　　a)耐堿性
　　
　　經溫度為60±2℃、濃度為10%的氫氧化鈉(A.R.)溶液浸泡5分鐘后,SiO2阻擋層性能仍符合5.1.4節所述的規格要求。
　　
　　b)耐酸性
　　
　　經溫度為60±2℃的3份36%鹽酸（A.R.）、50份去離子水、3份67%硝酸(A.R.)配制的溶液浸泡5分鐘后，SiO2阻擋膜層性能仍符合1.4節所述的規格要求。
　　
　　c)耐溶劑性能
　　
　　將鍍膜玻璃放入丙酮(A.R.)、無水乙醇(A.R.)或由100份去離子水加3份EC101配制成的清洗液中浸泡5分鐘后，SiO2阻擋層性能仍符合1.4節所述的規格要求。
　　
　　2、應用于電阻式觸摸屏的鈉鈣（Na-Ca）玻璃，通常在其一面需要鍍制一個SiO2膜層以保證膜層的均勻性。
　　
　　2.1、鍍膜面為錫面。
　　
　　2.2、SiO2膜層厚度為10.0納米(nm)。
　　
　　2.3、成份為100%的SiO2。
　　
　　2.4、有效鍍膜面為除去邊緣3mm區域的玻璃面。在距邊緣3mm內有四個裝架卡具處無鍍膜層，其余邊緣部分均有膜層。